La Ley Match (Multilateral Alignment of Technology Controls on Hardware o Alineación Multilateral de Controles Tecnológicos en Hardware) está en camino. Como os explicamos hace dos días, varios senadores de EEUU pertenecientes a ambos partidos (Demócratas y Republicanos) han propuesto una nueva legislación que persigue imponer una prohibición esencialmente total de las exportaciones de equipos avanzados de fabricación de chips y procesamiento de obleas a determinadas corporaciones de las naciones adversarias. Es evidente que China está en su punto de mira.
Durante los últimos cinco años el Gobierno de EEUU ha desplegado varios paquetes de sanciones que persiguen limitar cada vez más el acceso de los fabricantes chinos de semiconductores a los equipos de litografía y procesado de obleas que proceden no solo de EEUU, sino también de Países Bajos, Taiwán, Corea del Sur o Japón. EEUU está ejerciendo la propiedad de algunas de las patentes que utilizan esas máquinas, y también su capacidad de influir en las decisiones que toman sus aliados.
Actualmente los controles de exportación estadounidenses impiden la venta total de equipos de fotolitografía de ultravioleta extremo (UVE) y parcial de máquinas de ultravioleta profundo (UVP). El acceso a estas últimas está vetado a fábricas concretas de China que pueden o no aparecer en la lista negra de EEUU, pero las sanciones no prohíben su venta a las compañías propietarias de estas plantas. Esto es, precisamente, lo que persigue cambiar la Ley Match que han propuesto los senadores estadounidenses.
En la práctica la Ley Match impedirá, si prospera (y probablemente lo hará), que las máquinas UVP de ASML y otros equipos avanzados de procesamiento de obleas lleguen a cualquier instalación de los principales fabricantes chinos de chips. EEUU tiene en el punto de mira a SMIC, Huawei, Hua Hong Semiconductor, YMTC y CXMT, y también a sus subsidiarias. Lo recoge claramente el documento publicado por el senador Michael Baumgartner.
En realidad esta propuesta no introduce nuevas restricciones; lo que hace es cambiar la forma en que se permite el envío de herramientas avanzadas para impedir que las compañías chinas puedan seguir desarrollando técnicas sofisticadas, como el multiple patterning, con el propósito de producir chips de vanguardia. Sin embargo, para que la Ley Match sea eficaz la Administración estadounidense deberá contar necesariamente con la complicidad de sus aliados, especialmente de Países Bajos y Japón. De hecho, según SCMP el Gobierno de Donald Trump ya está presionando a sus socios con el propósito de poder implementar esta estrategia.
En EEUU residen varios fabricantes de equipos de litografía y procesamiento de obleas muy importantes, como Applied Materials, Lam Research o KLA Corporation. Sin embargo, ASML, que tiene el monopolio efectivo de las máquinas de fotolitografía UVE y UVE de alta apertura, es una empresa neerlandesa. Y Tokyo Electron, Canon, Nikon o JSR Corporation son compañías japonesas. Esta última lidera el mercado de la producción de los líquidos fotorresistentes avanzados que son necesarios para absorber la luz y preservar el patrón sobre las obleas. O EEUU consigue que Países Bajos y Japón respalden su iniciativa o la Ley Match estará condenada al fracaso.
